Naura正式宣布，ICP等离子蚀刻机第1000腔的交付仪式最近在北京亦庄基地举行。 NAURA蚀刻机研发团队见证了这一历史性时刻。北方华创表示，这不仅是公司发展历程中的一个重要里程碑，也是标志着国产蚀刻机经过20多年的自主创新已被客户广泛认可的重要标志。将来，他们将继续在等离子体蚀刻ICP技术领域寻求更多的改进。更多突破。北方华创科技集团有限公司成立于2001年，是由北京七星华创电子有限公司和北京北方微电子基础设备技术研究中心有限公司进行战略重组而组建的。中国集成电路的高端工艺设备。企业。北华创成立后，它开始成立一个团队研究蚀刻技术。 2004年，第一台设备成功启动。 2005年，第一台8英寸ICP蚀刻机在客户方推出，并于2007年获得了国家科学技术进步二等奖。目前，北华创的蚀刻设备已覆盖集成电路，LED，先进封装，功率半导体，MEMS微机电系统，化合物半导体，硅基微型显示器，分析仪器，功率器件，光通信器件等领域。该蚀刻机突破了14nm技术，进入了主流芯片代工厂。其中，12英寸ICP蚀刻机在实现客户端28nm的局部替换方面起着重要作用，并且在14 / 7nm SADP / SAQP，高级存储器，3DTSV和其他工艺应用中起着重要作用。所谓的等离子体干法蚀刻是一种使用等离子体进行薄膜微细加工的技术。它具有良好的各向异性和工艺可控性，广泛用于微电子产品制造领域。在典型的干法蚀刻工艺中，一个或多个气体原子或分子在反应室中混合，并且等离子体在外部能量（例如射频，微波等）的作用下形成。另外，许多人可能无法区分光刻机和蚀刻机。简单地说，光刻机将电路图投影到覆盖有光致抗蚀剂的硅晶片上，而蚀刻机将多余的电路图刻蚀在绘制有电路图的硅晶片上。再次类推，光刻机是照相机，蚀刻机是显影装置。